SUMMER LECTURE in 2016 for Nanotechnology / Nanosciences

このプログラムは文部科学省科学技術人材育成のコンソーシアムの構築事業（次世代研究者育成プログラム）の支援を受けておりますので、次の特典があります。特典はこちら This program is supported by the Ministry of Education, Culture, Sports, Science and Technology as “the construction project for the consortium of the fostering of science and technology personnel”, you will receive privileges as follows:
期　間 Dates	2016年7月28日（木）- 8月5日（金）　7月31日（日）を除く 2016年8月29（月）- 9月9日（金) 9月3日（土）, 4日（日）を除く July 28 Thur. – August 5 Fri.（8days：No lecture on July 31 Sun.） August 29 Mon. – September 9 Fri.（10days：No lecture on Sep. 3 Sat. and 4 Sun.）
会　場 Venues	7/28 – 8/5　筑波大学総合研究棟Ｂ0110、大阪大学吹田キャンパス・豊中キャンパス 8/29 – 9/9　筑波大学総合研究棟Ｂ0611 Laboratory of Advanced Research B, University of Tsukuba Institute for NanoScience Design, Osaka University (TV Realy)
内　容 Content of Lecture	lecture syllabus 7/28 – 8/5 ＊　Prof. Etienne Gheeraert (Institut Neel, CNRS and University of Grenoble-Alpes, France) “Solid state diffusion” Solid State Diffusion v2 Analysis of scientific work BaSi2 diffusion JJAP2014 Cu diffusion barrier on Si APL2008 Diamond Vacancy Diffusion DRM2012 Publication Assignment 2 SiO2 SiC BTI DFT H diffusion APEX Te diffusion in CdTe SolarCells2014 Vacancy Diffusion Graphene Nano Si self-diffusion PRB2013 Homework ＊　Prof. Henri Mariette (Institut Neel, CNRS and University of Grenoble-Alpes, France)　“Elaboration of semiconductor nanostructures” chapter 1 chapter 2 chapter 3 and 4 chapter 5 chapter 6 Reading1_Hanon et al. Nature Reading2_Kodamabaka et al.Science Reading3_Paek et al PSS Reading4_Rudolph et al.Nanoletters Reading5_Rueda-Fonseca et al.Nanoletters ＊　Prof. Ulrike Woggon（Technical University of Berlin, Germany）“Optical spectroscopy of nanostructured materials” ☆Web site for Lecture note ＊　Dr. Tristan Cren (CNRS/Institut des NanoSciences de Paris, Université Pierre et Marie Curie, France) “STM and STS, their principles and application to materials science” ☆Web site for Lecture note 8/29 – 9/9 ＊　Prof. Christophe Vallée (LTM- CEA/LETI MINATEC and University of Grenoble-Alpes, France) “Thin films and advanced plasma processes for microelectronics” Lecture file_1 Lecture file_2 Lecture file_3 Lecture file_4 Lecture file_5 Lecture file_6 Lecture file_7 ★Advantages and reactors for plasma ALD: 1_Choi 2_Detavernier 3_HBProfijt 4_Kim 5_Lim 6_Park 7_PEALDsystem 8_PlasmaALD ★Atomic Layer Etching 1_Agarwal 2_ALE_ECS-60 3_ALE_ECS-53 4_ALE_Orlein 5_Kanarik ★Double and quaduple patterning 1_Building_On_SDDP_Processes 2_Dhuey_nanotechnology2013 3_Donnelly_reviewplasmaetching 4_HBProfijt_review_Plasma_assisted 5_Mackus_nanoscale2014 6_TEL_slides ★Loading effect (ARDE) in plasma etching 1_Batses_ARDE_JVSTA2014 2_Donnelly_JVSTA2013 3_Hwang_ARDIE_APL97 4_Jensen_ME1995 5_Lai_ARDE_JVSTA2006 ★Reacter wall effect on plasma etching 1_Agarwal_JVSTA2008 2_Dictus_JVSTB2010 3_Ino_cleanin_IEEE96g 4_Klimecky_CL2plasma_JVST2003g 5_Session1-2 pesm2014-chanson-final 6_Ullal_Cl2plasma_JVSTA2002 ★Selective Deposition by ALD 1_Dong_3Dselective ALD 2_Fang_area selective ALD 3_Farm_thesis_2011 4_Hashemi_selective ALD patterning 5_Moshe_chapteronSelective ALD with SAM 6_Park_TiO2byselective ALD 7_Parsons_selective ALD_Ru 8_Parsons_talk ALD2015_Slides 9_ShawnMiller_TeleConf_6-17-10 10_Zhang_effect of susbtrateon ★Temporal to Spatial ALD 1_Creyghton_plasmaspatial ALD 2_Dickey_lotustechnology 3_Illiberi_SALD 4_Loewenhardt_semicon2015_slides 5_Poodt_reviewoneuropa2013_slides 6_Roozeboom_semiconeuropa2013_slides
対象者 Candidate	ナノサイエンス・ナノテクノロジーに興味を持つ大学院生及び社会人 ※所属大学指導教員等の推薦書があれば、大学4年生、高専専攻科2年生の参加を認めます。 Graduate students, young researchers and professionals interested in Nanoscience and Nanotechnology.
募集人数 Number of Positions	30名程度（原則として全日参加できる方） Around 30 people in each class (all-day attendance in principle)
選考方法 Selection	書類選考（応募多数の場合は大学院生を優先します。） ※申し込み締め切り後、参加の可否を連絡します。 Registration form screening： Graduate students have priority to apply in case of oversubscription. Note: After the closing date for application, an email of participation confirmation will be sent to applicants.
受講料 Tuition Fee	無料 ※7/28 – 8/5 は　交流会参加費1000円 8/29 – 9/9 は　交流会はありません Free Note: 7/28-8/5 Welcome Party (July 28) Fee of 1,000 yen. 8/29-9/9 No party will be held.
交通費・宿泊費 Travel Expenses	補助あり This Program subsidizes part of the travel and accommodation expenses for students.
単位修得について Acquire the credits	大学院生は単位修得が可能です。特別聴講学生の手続きはこちら Graduate students can acquire the credits(1 credit each). A procedure for Exchange Students, click Here.
主　催 Host	7/28 – 8/5 筑波大学大学院数理物質科学研究科　大阪大学ナノサイエンスデザイン教育研究センター 8/29 – 9/9 筑波大学大学院数理物質科学研究科 7/28-8/5　　Graduate School of Pure and Applied Sciences, University of Tsukuba and stitute for NanoScience Design, Osaka University 8/29-9/9 Graduate School of Pure and Applied Sciences, University of Tsukuba
お申込み Application deadline	締切：2016年6月27日（月） ※募集は締め切りました。ご応募ありがとうございました。 June 27 Mon. 2016 Note: We have closed the list. Thank you for your application.
お問い合わせ Contact	筑波大学　TIA推進室　E-mail：tia-edu★un.tsukuba.ac.jp ※★部分を@に変えてご連絡ください。 TIA Promotion Office, University of Tsukuba E-mail： tia-edu★un.tsukuba.ac.jp (Note: Change ★ to @)